Atomic Layer Deposition of Alumina on Silicon Nanotrees, towards the development of 3D ultrastable Aqueous Si Microsupercapacitor - CEA - Commissariat à l’énergie atomique et aux énergies alternatives
Communication Dans Un Congrès Année : 2018

Atomic Layer Deposition of Alumina on Silicon Nanotrees, towards the development of 3D ultrastable Aqueous Si Microsupercapacitor

Domaines

Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci] Energie électrique Micro et nanotechnologies/Microélectronique Matériaux
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https://cea.hal.science/cea-01993877

Soumis le : vendredi 25 janvier 2019-11:06:40

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-09:31:58

Archivage à long terme le : vendredi 26 avril 2019-12:36:59

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Dates et versions

cea-01993877 , version 1 (25-01-2019)

Identifiants

  • HAL Id : cea-01993877 , version 1

Citer

Anthony Valero, Dorian Gaboriau, P. Gentile, Saïd Sadki. Atomic Layer Deposition of Alumina on Silicon Nanotrees, towards the development of 3D ultrastable Aqueous Si Microsupercapacitor. 233rd ECS MEETING, May 2018, Seattle, WA, United States. ⟨cea-01993877⟩

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