Selective etching of Pt with respect to PtSi using a sacrificial low temperature germanidation process - Laboratoire d'Electronique et des Technologies de l'Information
Article Dans Une Revue Applied Physics Letters Année : 2007

Selective etching of Pt with respect to PtSi using a sacrificial low temperature germanidation process

Domaines

Sciences de l'ingénieur [physics]
Fichier principal
Vignette du fichier
2007-Breil-APL-Germanidation-hal.pdf (416.77 Ko) Télécharger le fichier
Origine Fichiers produits par l'(les) auteur(s)

Emmanuel Dubois  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00255853

Soumis le : mercredi 18 septembre 2024-15:44:25

Dernière modification le : samedi 12 octobre 2024-03:23:48

Télécharger pour visualiser

Dates et versions

hal-00255853 , version 1 (18-09-2024)

Identifiants

Citer

Nicolas Breil, Aomar Halimaoui, Thomas Skotnicki, Emmanuel Dubois, Guilhem Larrieu, et al.. Selective etching of Pt with respect to PtSi using a sacrificial low temperature germanidation process. Applied Physics Letters, 2007, 91, pp.232112-1-3. ⟨10.1063/1.2821143⟩. ⟨hal-00255853⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

CEA CNRS UNIV-VALENCIENNES IEMN DRT LETI UNIV-LILLE CEA-GRE
78 Consultations
6 Téléchargements

Altmetric

Partager

More