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Etude d’une lithographie ligne/espace innovante par auto-assemblage dirigé d’un copolymère à blocs pour la réalisation de dispositifs CMOS sub-20nmMicro et nanotechnologies/Microélectronique. Université Grenoble Alpes, 2017. Français. ⟨NNT : 2017GREAT091⟩
Theses
tel-01772011v1
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Precise control of template affinity achieved by UV-assisted graphoepitaxy approach on silicon nanowires applicationsNovel Patterning Technologies 2018, Feb 2018, San Jose, Canada. pp.11, ⟨10.1117/12.2297407⟩
Conference papers
cea-02185301v1
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